什麼是 PVD 真空電鍍？

PVD是 Physical Vapor Deposition 的簡稱。簡單地說，PVD是一種氣相沈積的技術，我們通常把真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜統稱為"物理氣相沈積"技術，簡稱為PVD技術。PVD真空鍍膜技術是表面處理技術的一支，在真空環境下，薄膜材料在主體材料表面因氣相沈積後所形成的被覆膜。PVD是一種【乾式環保製程】其整個被覆製程是【零污染】是其一大特色，且潔淨度達原子級，是現行舊式濕法電鍍製程所無法相比的，目前所有先進國家也己採用此高科技之表面製程，如：荷蘭、美國、德國…等。

蒸鍍

是指將金屬和氧化物等蒸發，使其於素材的表面附著形成薄膜的方法。屬於鍍膜中的一種。

濺鍍

是一種物理氣相沉積技術，指固體靶中的原子被高能量離子撞擊而離開固體進入氣體的物理過程。

CVD

是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術-簡稱化學氣相沉積。

PVD（物理氣相沉積）技術不僅有效提高了電鍍品質，還提供了更廣泛的設計可能性與環保效益。PVD濺鍍技術能精確控制薄膜的厚度和均勻性，使得產品在細節和質感上都達到國際級精品水準，整個鍍膜過程包括預處理、建立真空環境、材料蒸發、氣相傳輸、冷凝與形成薄膜，以及最後的後處理，每一個步驟都確保鍍層的均勻附著。

在預處理階段，物件需徹底清潔以去除所有污染物。接著，為確保高品質鍍層，將物件置於真空室中，抽除空氣以創造高真空環境。金屬材料在真空中被蒸發為氣態，然後自由移動並在冷卻的工件表面冷凝，形成均勻的金屬膜。完成鍍膜後，進行必要的後處理以確保塗層的品質，最終產出美觀、耐用的高品質鍍膜。

靶材 (Target) 是薄膜濺鍍製程中的關鍵材料，通常由高純度化合物或純金屬製成，純度要求至少達到99.99%。這些靶材是物理氣相沉積 (PVD) 技術應用中的重要鍍膜材料。

在沉積過程中，靶材會受到電子束、離子束或放電離子的衝擊，類似於被射擊的靶子。濺射靶材是指應用於真空濺射過程中的靶材，在濺射鍍膜系統中，首先在高真空環境中充入工作氣體（通常為氬氣），然後，透過施加電壓在陽極板和陰極板之間產生電漿。

電漿中的正離子會被陰極板的負電壓吸引並加速，進而以高能量轟擊陰極靶材表面。這樣，靶材原子會獲得動量並從靶材表面溢出，然後附著於欲鍍膜的基板上，形成所謂的濺射鍍膜（也稱為濺鍍）。

整個過程不僅需要高純度的靶材，還要求精確的工藝控制，以確保膜層的品質達到預期要求，透過使用高品質的靶材，PVD技術能夠實現優異的鍍膜效果，廣泛應用於各種高精密產品的表面處理中。

隨著高科技表面處理技術的發展，PVD（物理氣相沉積）鍍膜技術因其獨特的優勢而受到廣泛應用。PVD鍍膜膜層的厚度通常為微米級，範圍介於0.3μm到5μm之間，裝飾性鍍膜的厚度一般在0.3μm到1μm之間。這種薄膜特性使得鍍層幾乎不影響工件的原有尺寸，同時有效提升其物理性能和化學性能，且鍍後無需再加工。

耐磨性是PVD鍍膜的一大優勢，相比於傳統的鍍層，PVD技術提供的塗層更加堅固，耐磨耗強度是金的50倍，具備優異的抗刮擦能力，不易刮傷。PVD鍍膜讓產品在使用過程中更加耐用，壽命通常可達三年以上，並保持良好的顏色穩定性。

外觀方面，PVD鍍膜技術能夠在不影響外觀尺寸的情況下，能做到高精密的鍍膜效果且達到仿金（仿銀、仿古銅）的色澤，由於PVD膜層的附著性極佳，展現出金屬的高光亮及均勻的顏色，能創造出如K金般的質感與光澤，常是國際精品包扣件、腕錶、眼鏡及手飾等產品的首選。

在高硬度方面，PVD鍍膜膜層堅硬且緻密，表面微硬度是不鏽鋼10倍，除了具備光滑的表面之外，還具有低摩擦係數，在各種應用中表現出色。

此外，PVD鍍膜還具備高耐腐蝕性，能夠在鹽水、鹽酸浸泡一天不鏽蝕且不褪色，因此膜層對汗水和水的腐蝕具有良好的抵抗力，展現出優異的耐候性和化學穩定性，能夠有效延長產品的使用壽命。

最後，PVD鍍膜過程環保，與傳統鍍金方法相比，PVD電鍍技術幾乎無污染，無有害物質，能夠真正做到環境友好。

總之，PVD鍍膜技術憑藉薄膜特性、優異的耐磨性、持久的壽命、高品質的外觀、出色的硬度及良好的耐腐蝕性，正成為各行各業追求高品質產品的最佳選擇，PVD鍍膜技術不僅提升了產品的性能，更為品牌增添了價值。